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レーザー加工機用XYステージ

精密な位置決めを要求する半導体フォトマスク用ステンシルレーザー加工機用のステージも製作可能です。
フラットタイプのXYステージの他、ガントリー型のXYステージの製作実績があります。
リニアモータとリニアガイドによる駆動機構を採用し、位置決め精度5μm、最高送り速度は20m/minと高速、高精度の位置決めが可能な精密ステージとなっています。
また、各種ワークを固定するための治具設計も承っております。
加工時に発生するレーザー光の漏れ対策についてもご相談下さい。

スペック・仕様

名称 レーザー加工機用XYステージ
機械説明 高速かつ精密な位置決めを実現するステージです。
特徴 ①高速動作
②精密位置決め
③長さ等、必要に応じて設計変更可
寸法 W 1,540 × D 1,890 × H 250 (フラットタイプ)、W 1,400 × D 1,550 × H 980 (ガントリーAタイプ、架台込み)、W 1,400 × D 1,550 × H 1,430 (ガントリーBタイプ、架台込み)
能力 テーブルサイズ(mm):
W 450 × D 450 (フラットタイプ)
W 150 × D 325 (ガントリーAタイプ)
W 278 × D 319 (ガントリーBタイプ)
参考価格(税抜) 用途・仕様により概算価格を算出いたします。

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